Розподіл світла як фактор впливу на перебігпошарової фотополімеризації олігоефіракрилатних композицій, наповнених кремнеземом
Розглянуто вплив високодисперсних кремнеземів на процес пошарового фотоотвердіння олігоефіракрилатів. Встановлено, що введення кремнеземів, не змінюючи пошарового характеру фотоотвердіння, зменшує граничну товщину отвердіння й сповільнює швидкість процесу. Наповнення зм...
Gespeichert in:
| Datum: | 2003 |
|---|---|
| 1. Verfasser: | |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Ukrainian |
| Veröffentlicht: |
Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України
2003
|
| Schriftenreihe: | Поверхность |
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/146203 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Розподіл світла як фактор впливу на перебігпошарової фотополімеризації олігоефіракрилатних композицій, наповнених кремнеземом / Д.Л. Старокадомський // Поверхность. — 2003. — Вип. 9. — С. 93-98. — Бібліогр.: 21 назв. — укр. |