Using of proton beam writing techniques for fabrication of micro difraction gratings

To obtain micrometric gratings with a high aspect ratio by lithographic technique, it is proposed to use a proton beam focused in a line and electromagnetic scanning in the transverse direction to irradiate the resistive material. Numerical modeling is carried out to optimize the parameters of the...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2018
Hauptverfasser: Ponomarev, A.G., Kolinko, S.V., Rebrov, V.A., Kolomiets, V.N., Kravchenko, S.N.
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2018
Schriftenreihe:Вопросы атомной науки и техники
Schlagworte:
Online Zugang:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/147662
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Using of proton beam writing techniques for fabrication of micro difraction gratings / A.G. Ponomarev, S.V. Kolinko, V.A. Rebrov, V.N. Kolomiets, S.N. Kravchenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 4. — С. 285-288. — Бібліогр.: 13 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine