Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride

Processes in reactive plasma during the magnetron deposition of tantalum oxynitride with ICP activation of reactive gas are studied in dependence on Oxygen fraction. Results of spectroscopic study of optical emission from the plasma and of mass-spectrometry of gas composition in the vacuum chamber i...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2021
Hauptverfasser: Dudin, S., Yakovin, S., Zykov, A., Yefymenko, N.
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2021
Schriftenreihe:Вопросы атомной науки и техники
Schlagworte:
Online Zugang:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194770
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride / S. Dudin, S. Yakovin, A. Zykov, N. Yefymenko // Problems of atomic science and tecnology. — 2021. — № 1. — С. 122-126. — Бібліогр.: 7 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine