Влияние поверхности на перенос заряда в тонких металлических пленках на основе непереходных металлов
Обсуждается проблема создания сверхтонких (толщина слоя от 2 до 5 нм) электрически сплошных проводящих стабильных слоев металлов и исследования их электрических свойств. Рассмотрена возможность применения сурфактантных подслоев для предотвращения коагуляции зародышей кристаллизации в процессе роста...
Gespeichert in:
| Datum: | 2010 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russian |
| Veröffentlicht: |
Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України
2010
|
| Schriftenreihe: | Хімія, фізика та технологія поверхні |
| Online Zugang: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/28970 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Влияние поверхности на перенос заряда в тонких металлических пленках на основе непереходных металлов / Р.И. Бигун, З.В. Стасюк, М.Ю. Барабаш, Ю.А. Куницкий // Хімія, фізика та технологія поверхні. — 2010. — Т. 1, № 2. — С. 128-137. — Бібліогр.: 50 назв. — рос. |