Формирование интенсивных электронных пучков в протяженном плазменном диоде с металлогидридным инжектором предварительной плазмы
В статье рассматривается возможность создания автономного сильноточного источника электронного пучка на основе импульсного самостоятельного плазменно-пучкового разряда М-типа. Для создания предварительной плазмы используется отражательный разряд с полым металлогидридным катодом, который обеспе...
Gespeichert in:
| Datum: | 2003 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russian |
| Veröffentlicht: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2003
|
| Schriftenreihe: | Физическая инженерия поверхности |
| Online Zugang: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98453 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Формирование интенсивных электронных пучков в протяженном плазменном диоде с металлогидридным инжектором предварительной плазмы / А.Ф. Целуйко, В.Н. Бориско, Д.В. Зиновьев, А.А. Дробышевская , Е.В. Клочко // Физическая инженерия поверхности. — 2003. — Т. 1, № 3-4. — С. 319–328. — Бібліогр.: 17 назв. — рос. |