Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system
In the present paper the results of TaB₂ coating deposition in cluster set-up comprising a low pressure planar magnetron and an inductive plasma source are presented. The system allows to control independently the fluxes of the deposited Ta and B atoms from the sputtered TaB₂ target, and the fluxes...
Gespeichert in:
| Datum: | 2017 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | , , , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2017
|
| Schriftenreihe: | Вопросы атомной науки и техники |
| Schlagworte: | |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system / S. Yakovin, A. Zykov, S. Dudin, V. Farenik, A. Goncharov, I. Shelest, V. Kuznetsov // Вопросы атомной науки и техники. — 2017. — № 1. — С. 187-190. — Бібліогр.: 15 назв. — англ. |