The modified 200 keV pulsed electron beam source for the VEPP-5 injection complex
The modified pulsed electron beam source on voltage 200 kV and current 10 A with half-height pulse duration 2.5 ns and repetition rate 50 Hz is described. The source gun has been performed on the base of impregnated cathode with 20 mm diameter. The cathode pulse voltage is formed by storage capaci...
Gespeichert in:
| Datum: | 2006 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | , , , , , , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2006
|
| Schriftenreihe: | Вопросы атомной науки и техники |
| Schlagworte: | |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | The modified 200 keV pulsed electron beam source for the VEPP-5 injection complex / A.V. Akimov, V.E. Akimov, P.A. Bak, I.V. Kazarezov, A.A. Korepanov, Ya.V. Kulenko, T.V. Ribitskaia, G.I. Kuznetsov, A.A. Pachkov, M.A. Tiunov // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 3. — С. 84-86. — Бібліогр.: 3 назв. — англ. |