Ion energy and angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources
The possibilities to control ion energy distribution functions (IEDFs) and ion angle distribution functions (IADFs) on electrodes in single- and dualfrequency capacitively coupled plasma (CCP) sources are investigated by means of particle-in-cell/Monte Carlo (PIC/MCC) simulations. It is shown that...
Gespeichert in:
| Datum: | 2006 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2006
|
| Schriftenreihe: | Вопросы атомной науки и техники |
| Schlagworte: | |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Ion energy and angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources / O.V. Manuilenko, K.M. Minaeva // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 5. — С. 116-121. — Бібліогр.: 16 назв. — англ. |