Famakinwa, T., Ikezawa, S., Homyara, H., Yoshioka, T., Nakamura, K., Ninomiya, Y., . . . Taoda, H. (2000). Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size. Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Famakinwa, T., et al. Industrial Applications of TiO₂ Films Deposited by Electron-beam-excited Plasma of Meter-size. Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України, 2000.
MLA-Zitierstil (8. Ausg.)Famakinwa, T., et al. Industrial Applications of TiO₂ Films Deposited by Electron-beam-excited Plasma of Meter-size. Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України, 2000.
Achtung: Diese Zitate sind unter Umständen nicht zu 100% korrekt.