Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Datum:	2000
Hauptverfasser:	Famakinwa, T., Ikezawa, S., Homyara, H., Yoshioka, T., Nakamura, K., Ninomiya, Y., Oda, H., Hara, T., Hori, M., Fujii, S., Yoshimura, K., Taoda, H.
Format:	Artikel
Sprache:	English
Veröffentlicht:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2000
Schriftenreihe:	Вопросы атомной науки и техники
Schlagworte:	Low Temperature Plasma and Plasma Technologies
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size / T. Famakinwa, S. Ikezawa, H. Homyara, T. Yoshioka, K. Nakamura, Y. Ninomiya, H. Oda, T. Hara, M. Hori, S. Fujii, K. Yoshimura and H. Taoda // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 3. — С. 159-161. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine