APA (7th ed.) Citation

Famakinwa, T., Ikezawa, S., Homyara, H., Yoshioka, T., Nakamura, K., Ninomiya, Y., . . . Taoda, H. (2000). Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size. Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України.

Chicago Style (17th ed.) Citation

Famakinwa, T., et al. Industrial Applications of TiO₂ Films Deposited by Electron-beam-excited Plasma of Meter-size. Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України, 2000.

MLA (8th ed.) Citation

Famakinwa, T., et al. Industrial Applications of TiO₂ Films Deposited by Electron-beam-excited Plasma of Meter-size. Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України, 2000.