Features of mechanical scanning probe lithography on graphene oxide and As(Ge)Se chalcogenide resist

Features of mechanical scanning probe lithography on graphene oxide and As(Ge)Se chalcogenide resist

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Bibliographische Detailangaben
Datum:	2018
Hauptverfasser:	P. M. Lytvyn, S. V. Malyuta, I. Z. Indutnyi, A. A. Efremov, O. V. Slobodyan, V. I. Minko, A. N. Nazarov, O. V. Borysov, I. V. Prokopenko
Format:	Artikel
Sprache:	English
Veröffentlicht:	2018
Schriftenreihe:	Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics
Online Zugang:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000899772
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