Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B4C target

Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B4C target

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Bibliographische Detailangaben
Datum:	2015
Hauptverfasser:	A. A. Onoprienko, V. I. Ivashchenko, I. I. Timofeeva, A. K. Sinelnitchenko, O. A. Butenko
Format:	Artikel
Sprache:	English
Veröffentlicht:	2015
Schriftenreihe:	Superhard Materials
Online Zugang:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000694055
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