Low-temperature deposition of silicon dioxide films in high-density plasma

Low-temperature deposition of silicon dioxide films in high-density plasma

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Bibliographische Detailangaben
Datum:	2013
Hauptverfasser:	A. Yasunas, D. Kotov, V. Shiripov, U. Radzionay
Format:	Artikel
Sprache:	English
Veröffentlicht:	2013
Schriftenreihe:	Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics
Online Zugang:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000351896
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