Influence of Annealing Environment on the Ni Diffusion Rate to Surface of the Thin-Film Au/Ni System
Збережено в:
Дата: | 2012 |
---|---|
Автори: | S. I. Sydorenko, S. M. Voloshko, O. O. Mishchuk, A. A. Tynkova |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2012
|
Назва видання: | Metallophysics and advanced technologies |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000470869 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Influence of deposition rate and substrate temperature on structure and optical features of NiO thin film
за авторством: Oberemok, O.S., та інші
Опубліковано: (2016) -
Simulations of Diffusion and Ordering Processes in Au/Cu Thin Film System by Mean Field Kinetics Method
за авторством: S. I. Sidorenko, та інші
Опубліковано: (2013) -
Low-Temperature Interdiffusion and Ordered Phase Formation in Au/Cu Nanocrystalline Thin Films at the Different Atmospheres
за авторством: A. A. Tynkova, та інші
Опубліковано: (2014) -
Surface plasmon resonance in "Monolayer of Ni nanoparticles/dielectric spacer/Au (Ni) film" nanostructure: Tuning by variation of spacer thickness
за авторством: O. A. Yeshchenko, та інші
Опубліковано: (2018) -
Surface plasmon resonance in "Monolayer of Ni nanoparticles/dielectric spacer/Au (Ni) film" nanostructure: Tuning by variation of spacer thickness
за авторством: O. A. Yeshchenko, та інші
Опубліковано: (2018)